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年近三十,科技立业 正文卷 第131章 十倍精度光刻

作者:辰小序 分类:都市 更新时间:2024-04-09 22:09:32直达底部

 

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纪弘也很头疼,产能怎么挤?巧妇也难为无米之炊!

    最关键的自然不是零部件这种东西,而是光刻机。

    不说别的,在限制一次又一次的加码之后,国内现在能够进口的最先进的光刻机是1980di,曝光精度是38nm的那款。

    主要用于28nm、14nm制程,多重曝光的情况下,也能制造7nm芯片。
    《年近三十,科技立业》第131章 十倍精度光刻

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